METALLBESCHICHTETE POLYMERPARTIKEL


REM-Aufnahme von Cu-beschichteten MF-Partikeln
REM-Aufnahme von Cu-beschichteten MF-Partikeln

EDX-Spektrum von Cu-beschichteten MF-Partikeln
EDX-Spektrum von Cu-beschichteten MF-Partikeln

Lichtmikroskopische Aufnahme von Cu-beschichteten MF-Partikeln
Lichtmikroskopische Aufnahme von Cu-beschichteten MF-Partikeln

Für die Herstellung von metallbeschichteten Polymerpartikeln (MF-Partikel, PS-Partikel) aus wäßriger Lösung, hat die microparticles GmbH verschiedene Strategien entwickelt:
  • Selbstorganisation von kolloidalen Nanoteilchen (z. B. Ag, Au) auf der Oberfläche der Polymerpartikel
  • Adsorption von Metallionen wie Pd2+, Pt2+ oder Au3+ auf speziell modifizierten Polymerteilchen und anschließender Reduktion zum nanostrukturierten Metall
  • Selektive stromlose Abscheidung von Metallionen auf einer aktivierten Partikeloberfläche unter Ausbildung eines dünnen Metallfilms aus Kupfer, Nickel, Kobalt, Silber oder Gold
Durch Variation des pH-Wertes, der Kolloidkonzentration in der Lösung, der Größe der Nanopartikel sowie der Oberflächeneigenschaften der Polymerpartikel, sind monodisperse Teilchen mit unterschiedlicher Beladungsdichte an Nanoteilchen herstellbar (isolierte Nanopartikel, Submonolayer, Monolayer oder Multilayer).
Die Adsorption der Nanopartikel ist sehr stark. Sie lassen sich weder durch Wasser, Säuren, Basen oder Ultraschall von der Partikeloberfläche entfernen.
Die Beschichtung mit Edelmetallkolloiden geht mit einer drastischen Änderung der optischen Eigenschaften der Partikel einher. Dadurch entstehen z.B. aus farblosen MF-oder PS-Originalpartikeln nach der Beschichtung mit Gold, Silber oder Platin rot-violette, gelbliche oder graue monodisperse Teilchen.

Anwendungsgebiete:

  • Katalyse
  • Substrate für SERS (Surface Enhanced Raman Scattering)
  • Aniosotrope Leitkleber
  • Substrate für Self-assembled monolayes (SAMs)
  • Tracerpartikel für die Particle Imaging Velocimetry -Technik (PIV)

-> Metallbeschichtete monodisperse Polymerpartikel auf MF- oder PS-Basis können auf Kundenwunsch in Partikelgrößen von 200 nm bis 20 µm hergestellt werden.


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